Новости по компании INTEL
Новость: положительная. В поисках преимущества над конкурентами Intel первой создала инструмент ASML для микросхем нового поколения. Intel заявила в четверг, что стала первой компанией, которая собрала один из новых инструментов для литографии High NA EUV голландской технологической группы ASML, что является важной частью стремления американского производителя компьютерных чипов затмить конкурентов. Intel была первой компанией, купившей одну из машин стоимостью 350 миллионов евро (373 миллиона долларов), произведенных ведущим поставщиком чипового оборудования ASML. Ожидается, что эти инструменты приведут к созданию новых поколений меньших по размеру и более быстрых чипов, хотя здесь есть финансовые и инженерные риски. «Мы согласились на цену, когда взяли на себя обязательства по использованию инструментов, и мы бы не сделали этого, если бы не были уверены в том, что они могут быть экономически эффективными», — заявил директор отдела литографии Intel Марк Филлипс на брифинге для журналистов. ASML, крупнейшая технологическая фирма Европы, доминирует на рынке систем литографии — машин, которые используют лучи света для создания схем чипов. Литография — одна из многих технологий, которые производители микросхем используют для улучшения чипов, но она является ограничивающим фактором в том, насколько маленькими могут быть элементы чипа: меньше означает более быструю и более энергоэффективную. Ожидается, что инструменты с высокой числовой апертурой помогут сократить размеры конструкции чипов почти на две трети, но производители микросхем должны сопоставить эту выгоду с более высокой стоимостью и с тем, могут ли старые технологии быть более надежными и достаточно хорошими. Решение Intel первой внедрить технологию High NA не случайно. Это помогло разработать технологию EUV, названную в честь используемых ею длин волн света «крайнего ультрафиолета». Но она начала использовать первый продукт EUV ASML позже, чем тайваньский конкурент TSMC, что, по признанию генерального директора Пэта Гелсингера, было большой ошибкой. Вместо этого Intel сосредоточилась на методах, известных как «мульти-узор» — по сути, пройдя больше шагов с помощью литографических машин с более низким разрешением для достижения эквивалентного эффекта. «Именно тогда у нас возникли проблемы», - сказал Филлипс. Хотя старые инструменты DUV были дешевле, сложное создание нескольких шаблонов отнимало слишком много времени и приводило к появлению слишком большого количества неисправных микросхем, что замедляло коммерческий прогресс Intel. Американская компания теперь внедрила EUV первого поколения для наиболее важных частей своих лучших чипов, и Phillips заявила, что ожидает, что переход на High NA EUV будет более плавным. «Теперь, когда у нас есть EUV, мы смотрим вперед, мы не хотим попасть в ту же лодку, где нам придется заходить слишком далеко (машины EUV первого поколения ASML)», — сказал он. Филлипс сообщил, что машина в его кампусе в Хиллсборо, штат Орегон, будет «полностью запущена позднее в этом году». Intel планирует использовать машину размером с двухэтажный автобус при разработке чипов поколения 14A в 2025 году, при этом раннее производство ожидается в 2026 году, а полное коммерческое производство - в 2027 году. ASML заявила, что наряду с прибылью на этой неделе она начала процесс поставки второй системы High NA неустановленному клиенту, вероятно, TSMC или южнокорейской компании Samsung. Доставка и установка массивных инструментов может занять до шести месяцев, что дает Intel преимущество. Автор: Toby Sterling. Источник: www.reuters.com
Пост взят с международного финтех-медиа ресурса
ДЛЯ ЛЮДЕЙ