ЭКОНОМИКА МИРА [новости]
МИРОВАЯ ЭКОНОМИКА
Китай не может заменить ASML в производстве чипов до 2030 года
Китай отстаёт в области литографии для производства микросхем Китай продолжает испытывать серьезные трудности в развитии технологий литографии — критически важного сегмента в рамках стратегии технологической независимости и конкуренции с США. Несмотря на масштабные инвестиции и государственную поддержку, уровень локализации в этом направлении остаётся крайне низким. По оценке Центра безопасности и новых технологий (CSET), крупнейший китайский производитель литографического оборудования Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) контролирует лишь 4% рынка в сегменте устаревших систем. Хотя китайские компании в целом добились ощутимого прогресса — в частности, сравнялись с Японией в одном из технологических направлений — разрыв с лидерами отрасли остаётся огромным. Наиболее ярко это проявляется в отставании от нидерландской ASML — абсолютного лидера в области передовой экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV). Из-за давления США ни одна установка EUV так и не была поставлена в Китай. Даже японская Nikon, уступающая ASML, остаётся недосягаемой для SMEE по уровню технологий. Прорыв Huawei в 2023 году, когда компания представила 7-нм чип, разработанный с помощью SMIC, вызвал резонанс в США, но дальнейшее развитие оказалось ограничено — главным образом из-за отсутствия доступа к современному литографическому оборудованию. Исследование CSET, проведённое на основе данных TechInsights, показывает, что китайские производители остаются в основном в пределах менее сложных технологий. При этом внутренние наработки, такие как проекты Huawei, в статистике не учитываются, что может занижать реальный масштаб усилий. Однако в краткосрочной перспективе это не меняет главного вывода: литография остаётся наиболее уязвимым звеном в цепочке полупроводниковых технологий Китая. Источник: www.bloomberg.com
Albert_89
Скачайте бесплатно приложение MONDIARA на свой мобильный телефон.